DWAM16壓力開(kāi)關(guān)庫(kù)存現(xiàn)貨

                                                 品牌 ： FEMA | 霍尼韋爾

Honeywell Fema DWAM系列特別適用于蒸汽和熱水系統(tǒng)中的最大壓力監(jiān)測(cè)。壓力開(kāi)關(guān)是一種“特殊設(shè) 計(jì)"，帶有自監(jiān)控壓力傳感器，符合 PED 2014/68/EU 標(biāo)準(zhǔn)。

DWAM系列壓力開(kāi)關(guān)特別適用于蒸汽和熱水系統(tǒng)中的最大壓力監(jiān)測(cè)。壓力開(kāi)關(guān)是一種“特殊設(shè)計(jì)"，帶有自監(jiān)控壓力傳感器，根據(jù)壓力設(shè)備指令 PED 2014/68/EU 制造。它可用作壓力開(kāi)關(guān)或壓力限制器，用于符合 DIN EN12952-11 和 DIN EN12953 EN12828-9 的系統(tǒng)中的最大壓力監(jiān)測(cè)（符合 TRBS DIN 的系統(tǒng)），可帶或不帶調(diào)節(jié)。它有一個(gè)堅(jiān)固的外殼，由耐海水壓鑄鋁制成。DWAM型是無(wú)壓差設(shè)置的壓力開(kāi)關(guān)，用于最大壓力監(jiān)測(cè)，DWAMV型是帶壓差設(shè)置的壓力開(kāi)關(guān)，用于最大壓力監(jiān)測(cè)。

• 壓力開(kāi)關(guān)和安全壓力限制器的校準(zhǔn)方式是，當(dāng)壓力增加時(shí)，開(kāi)關(guān)在規(guī)定的開(kāi)關(guān)壓力下進(jìn)行。
• 在壓力下降的情況下，反轉(zhuǎn)點(diǎn)會(huì)降低開(kāi)關(guān)差的量，或者，如果是泄壓裝置，則會(huì)降低表中所示的壓降。刻度值對(duì)應(yīng)于上切換點(diǎn)。
• 所有類(lèi)型的爆破壓力≥ 100 bar。-通過(guò)TUV測(cè)試。

• DVGW 測(cè)試證書(shū)：根據(jù) EC 燃?xì)馄骶咧噶?（EU/2016/426） 和 DIN EN 1854 進(jìn)行 EC 型式檢驗(yàn)

• 開(kāi)關(guān)差：0.04 bar（氣壓）

• 最小工作環(huán)境溫度：-20

• 最小調(diào)節(jié)壓力：0.1 bar（氣壓）

• 最大調(diào)節(jié)壓力 ： 0.6 bar （氣壓）

• 品牌 ： FEMA | 霍尼韋爾

• 壓力類(lèi)型

  ： Overpressure Relative|overdruk relatief|sobrepresión relativa|sovrapressione relativa|surpression relative|超壓相對(duì)

• 連接類(lèi)型

  ： 內(nèi)螺紋 G1/4 in，外螺紋 G1/2 in

                                                                     DWAM16 | FEMA | PRESSURE SWITCH 3-16 BAR

                              熱門(mén)賽道 | PVD物理氣相沉積半導(dǎo)體關(guān)鍵前道工藝

PVD（物理氣相沉積）是一種用于在物體表面沉積薄膜的技術(shù)，通過(guò)將材料蒸發(fā)并在真空環(huán)境中沉積到基材表面來(lái)實(shí)現(xiàn)涂層。PVD技術(shù)廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、醫(yī)療器械和工具制造等領(lǐng)域。常見(jiàn)的PVD工藝包括蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜等。PVD技術(shù)的主要優(yōu)勢(shì)包括高硬度、耐磨性、抗腐蝕性，并且在涂層的顏色、厚度和均勻性方面具有很好的可控性。

從政策環(huán)境的角度來(lái)看，我國(guó)對(duì)PVD設(shè)備高度重視，主要體現(xiàn)在支持半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展的相關(guān)政策上。例如，在《“十三五"國(guó)家科技創(chuàng)新規(guī)劃》中，薄膜設(shè)備（如PVD設(shè)備、CVD設(shè)備等）被列為國(guó)家重點(diǎn)攻關(guān)的制造裝備；同時(shí)，在《國(guó)家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)“十三五"規(guī)劃》中也明確提出，要推動(dòng)集成電路關(guān)鍵裝備的核心技術(shù)突破與應(yīng)用。

PVD設(shè)備市場(chǎng)主要得益于光電子行業(yè)的迅速發(fā)展。隨著顯示技術(shù)的持續(xù)創(chuàng)新，如有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）和柔性顯示技術(shù)的進(jìn)步，對(duì)高質(zhì)量、高性能光學(xué)薄膜的需求不斷上升，推動(dòng)了PVD設(shè)備市場(chǎng)的擴(kuò)展。此外，半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)PVD設(shè)備的需求也在不斷增長(zhǎng)，因?yàn)镻VD設(shè)備能夠用于制備金屬薄膜、氮化硅薄膜、硼化硅薄膜等關(guān)鍵材料，廣泛應(yīng)用于集成電路的生產(chǎn)中。

PVD（物理氣相沉積）和 PVD 設(shè)備的產(chǎn)業(yè)鏈可以根據(jù)材料、設(shè)備制造和應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行上、中、下游的細(xì)分。

上游產(chǎn)業(yè)鏈

原材料供應(yīng)：上游產(chǎn)業(yè)主要包括 PVD 工藝所需的材料供應(yīng)商，如金屬靶材（鈦、鉻、鋁等）、陶瓷靶材（氮化鈦、氧化鋁等）以及一些用于鍍膜過(guò)程中的氣體（如氮?dú)狻鍤?、氫氣等）?/span>

零部件供應(yīng)：包括用于制造 PVD 設(shè)備的關(guān)鍵組件和材料，如真空泵、離子源、電源系統(tǒng)、氣體控制系統(tǒng)和靶材冷卻系統(tǒng)等。這些零部件的質(zhì)量和性能直接影響 PVD 設(shè)備的效率和穩(wěn)定性。

中游產(chǎn)業(yè)鏈

PVD 設(shè)備制造：中游產(chǎn)業(yè)鏈的核心是 PVD 設(shè)備的設(shè)計(jì)和制造商。它們負(fù)責(zé)組裝和生產(chǎn)用于不同應(yīng)用領(lǐng)域的 PVD 設(shè)備。設(shè)備制造商根據(jù)不同的工藝要求，提供不同類(lèi)型的設(shè)備（如蒸發(fā)鍍膜設(shè)備、濺射鍍膜設(shè)備、離子鍍?cè)O(shè)備等）。

設(shè)備集成與測(cè)試：在設(shè)備制造完成后，需要進(jìn)行集成和調(diào)試，以確保設(shè)備達(dá)到性能要求，并能夠穩(wěn)定運(yùn)行。這包括真空系統(tǒng)的集成、控制系統(tǒng)的調(diào)試、鍍膜效果的測(cè)試等。

下游產(chǎn)業(yè)鏈

PVD 涂層和設(shè)備的下游應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛，主要包括：

電子與半導(dǎo)體：用于制造晶圓、存儲(chǔ)器、顯示器、觸控屏等電子元器件的保護(hù)涂層。

工、模具制造：用于切削工具、模具等零部件表面的耐磨涂層，以提高其硬度和耐磨性。

裝飾和珠寶行業(yè)：用于各種金屬表面的裝飾涂層，提供多樣的顏色和耐久性，比如手表、眼鏡框、飾品等。

光學(xué)與光伏：用于光學(xué)透鏡、鏡片、光伏電池等產(chǎn)品的反射層或抗反射層。

醫(yī)療器械：在手術(shù)器械、植入物等設(shè)備上涂覆防腐蝕和抗菌涂層，以延長(zhǎng)使用壽命并提高安全性。

服務(wù)支持

設(shè)備維護(hù)與售后服務(wù)：對(duì)于 PVD 設(shè)備制造商來(lái)說(shuō)，售后服務(wù)是至關(guān)重要的一環(huán)，包括設(shè)備的安裝、維護(hù)、定期校準(zhǔn)和故障維修等，以保證設(shè)備的長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。

技術(shù)支持與培訓(xùn)：PVD 設(shè)備和工藝往往需要專(zhuān)業(yè)技術(shù)支持，制造商通常提供操作培訓(xùn)、工藝優(yōu)化和咨詢(xún)等服務(wù)，以幫助下游用戶(hù)提升使用效率和工藝水平。

全球主要的PVD鍍膜機(jī)制造商包括Applied Materials、ULVAC、Optorun、Buhler Leybold Optics和Shincron等。世界前五名PVD鍍膜機(jī)制造商約占全球市場(chǎng)總數(shù)的74％。亞太地區(qū)是大的PVD鍍膜機(jī)消費(fèi)市場(chǎng)，約占66％，其次是歐洲和北美。PVD最初的研制主要用于制造人造衛(wèi)星需要耐磨的零部件，隨著其處理技術(shù)不斷發(fā)展，PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍也開(kāi)始不斷擴(kuò)展。

主流供應(yīng)商

• 國(guó)際廠商：應(yīng)用材料（AMAT）、東京電子（TEL）、泛林半導(dǎo)體（Lam Research），壟斷 300mm 晶圓 PVD 設(shè)備市場(chǎng)。
• 國(guó)內(nèi)廠商：北方華創(chuàng)、中微公司、拓荊科技，已實(shí)現(xiàn) 28nm 及以上工藝磁控濺射設(shè)備量產(chǎn)，正在攻關(guān)先進(jìn)工藝設(shè)備。

目前我國(guó)正大力發(fā)展半導(dǎo)體、新一代信息產(chǎn)業(yè)、新材料、新能源、航天航空等產(chǎn)業(yè)，在此背景下真空鍍膜行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模有望不斷擴(kuò)大，行業(yè)發(fā)展前景廣闊。